環保署於 101 年 10 月 12 日發布訂定光電材料及元件製造業放流水標準、科學工業園區污水下水道系統放流水標準，除原有管制項目外，主要係將氨氮分二階段列入管制，生物急毒性移入水污染防治措施及檢測申報管理辦法，予以規範。同時基於風險管理之理念，對於具戴奧辛污染產生潛勢之事業如紙漿製造業、從事氯乙烯製造之化工業，以及具廢棄物焚化設施且採濕式或半乾式洗滌處理之事業等，增訂戴奧辛管制項目 。

        環保署表示，因氨氮排入於環境水體後，會消耗水中溶氧，造成水質惡化、水體優養化及危害水中生物等情形，且依據調查結果，光電業及科學園區之氨氮排放量占產業氨氮總排放比率之 34% ，故有必要納入管制。管制項目另包含現行放流水標準所列具科技產業特性之項目，總計光電業及科學園區分別管制 33 項及 34 項。生物急毒性屬性上宜透過定期監測與管理，並藉由毒性鑑定與毒性減量等方式，規範業者改善水質特性，相較於單以放流水標準管制，更能促使業者進行原料或製程控管、處理設備功能提升，故移入水污染防治措施及檢測申報管理辦法，予以規範。

        環保署指出，光電業及科學園區之氨氮管制，依既 ( 新 ) 設業者，規範不同限值及緩衝期因應。其中新設業者之限值為 20mg/L ，自發布日施行。既設業者第一階段之限值為 75mg/L ，自 102 年 7 月 1 日施行，提出削減計畫並經主管機關核定者得延後至 104 年 1 月 1 日施行；第二階段因須配合改善廢（污）水處理設施，給予較長緩衝期，惟最遲至 106 年 1 月 1 日應符合 30mg/L 。

        另依歐盟國家之調查數據顯示，每年戴奧辛排放總量中，水體排放比率僅 0.25% ，尚不到 1% 。國內調查結果亦顯示，戴奧辛產生潛勢較高之事業放流水，經處理後之戴奧辛含量，遠低於美國、日本之放流水排放標準 (10 pg I-TEQ/L) 。惟基於風險預防管理之精神，將製程及處理流程較具戴奧辛產生潛勢之事業如紙漿製造業、從事氯乙烯製造之化工業，以及具廢棄物焚化設施且採濕式或半乾式洗滌處理之事業，增訂戴奧辛管制項目，並依既 ( 新 ) 設業者規範不同限值，新設業者之限值為 5 pg I-TEQ/L ，既設業者之限值為 10 pg I-TEQ/L ，自發布日起施行。